碳化硅CVI/CVD沉積爐技術(shù)特征

電阻爐可采用多溫區(qū)獨(dú)立控溫，溫度均勻性好；

采用智能壓力調(diào)控，壓力波動(dòng)??；

全封閉沉積室，密封效果好，抗污染能力強(qiáng)；

多通道工藝氣路，流場(chǎng)均勻，無沉積死角，沉積效果好；

多級(jí)高效尾氣處理系統(tǒng)，環(huán)境友好，易清理；

碳化硅CVI/CVD沉積爐產(chǎn)品規(guī)格

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進(jìn)行調(diào)整，不作為驗(yàn)收依據(jù)，具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準(zhǔn)。

碳化硅CVI/CVD沉積爐配置選擇

結(jié)構(gòu)形式：立式-上出料/下出料

爐門鎖緊方式：手動(dòng)/自動(dòng)

爐殼材質(zhì)：內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼

保溫材質(zhì)：碳?xì)?石墨氈/碳纖維固化氈

加熱器、馬弗材質(zhì)：石墨/CFC

熱電偶：C/S分度號(hào)